nanoArch 240系列基于BMF摩方的技术⸺面投影微立体光刻技术(PµSL)构建。摩方PµSL是一种微米级精度的3D光刻技术,这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用,使用滚刀快速涂层技术大大降低每层打印的时间,并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。
的薄膜滚刀涂层技术允许更高的打印速度,使打印速度提升10倍以上;
能够处理高达20000cps的高粘度树脂,从而生产出耐候性更强、功能更强大的零部件;
打印材料
通用型:丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等、工业级复合聚合物,例如高粘度树脂、陶瓷浆料等
个性化:高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等
系统特点
的供料系统和涂层技术
具有微尺度多材料的打印能力
光学监控系统,自动对焦功能
配置光学平台,提高打印质量
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件,包括抽真空及紫外后固化
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