微波反应器可广泛用于贵重材料包括GaN，SiC等的表面沉积。UHV结构，易于安装到现有的MBE系统上。稳定可靠的真空腔。低气压、高密度及低能量的离子源。
1.微波功率随温度自动反馈控制，非脉冲微波连续加热. 自动调整和控制反应过程，达到准确的温度和反应过程控制效果，确保合成反应的均匀性和一致性。比传统脉冲式加热，微波作用时间更长，产率更高。
2.高频率和高精度的红外温度传感器，监测反应容器内反应物质发热产生的红外光线来测量和控制反应容器内的温度变化过程，随时检测到反应容器内的温度数值，温度控制范围：0-250℃（根据反应要求可选装室温～500℃或室温～900℃），精度±1℃，无滞后和延迟效应。比铂电阻测温更安全，更灵敏，更准确，操作更简便。
3.同时配备电磁和机械搅拌装置，用户可根据反应物质情况自行选择搅拌方式，搅拌速度连续可调并实时显示。适用于各种粘稠度的液体和固体反应物。
4.内置10套反应方案，任意调用。用户可自行编辑、存储、修改和删除各套反应方案及各项反应控制参数（包括工步，温度，时间和搅拌速度等）
5.配备炉腔内摄像装置,并通过炉腔外的TFT彩色液晶（或CRT）显示器，随时观察或录像炉腔内反应过程，掌握实时的反应情况。
6.微波炉腔上的任何开口都对人体安全，整机安全性能通过国家质检部门安全认证。
7.高强度的防腐涂层确保炉腔持久抵御各种有机溶剂和酸雾蒸汽的侵蚀，并配备大容量排风装置。
