首先，涂料中的成膜物即树脂和颜料等大多数是由高分子有机化合物组成，多成为导电的电介质，溶剂形涂料除成膜物外还有、助溶剂、固化剂、静电稀释剂、及其他各类添加剂等物质。

这类溶剂性物质除了苯、二、溶剂等，大多是极性物质，电阻率较低，有一定的导电能力，它们能提高涂料的带电性能。电介质的分子结构可分为极性分子和非极性分子二种。

极性分子组成的电介质在受外加电场作用时，显示出电性；非极性分子组成的电介质在外加电场作用下，显示电极性，从而对外来的导性电荷产生亲合力，使电介质在外加电场中其外表面能局部带电。斯普瑞粉末喷塑设备的涂料经喷喷嘴雾化后喷出，被雾化的涂料微粒通过口的极针或喷盘、喷杯的边缘时因接触而带电，当经过电晕放电所产生的气体电离区时，将再一次增加其表面电荷密度。

高真空方法 ：

真空镀vacuum plating 真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。

(1)真空蒸发镀 在高真空容器中，将金属材料加热蒸发，并镀着在制件表面上，形成与基体牢固结合的金属或非金属覆盖层的过程称为真空蒸发镀，简称真空镀或蒸发镀，如真空镀铝，真空镀镀金等。

(2)溅射镀 在高真空容器中，在低气压下使离子在强电场作用下轰击膜料，使其表面原子逸出并沉积在制件表面上形成薄膜的过程称为溅射镀，如溅射硅、溅射银等。

(3)离子镀 在高真空容器中，在低气压下利用蒸发源蒸出的粒子，经过辉光放电区部分电离，通过扩散和电场作用，沉积于制件表面形成与基本牢固结合镀覆层的过程称为离子镀，如镀氮化钛等。

(4)化学气相镀 在低压下，利用气态物质在固态表面上进行化学反应生成与基体结合良好的固体沉积层的过程称为化学气相镀（有时也有常压下进行）。如气相沉积氧化硅、氮化硅等。

(5)离子注入 在高压电下将不同离子注入工件表面以改变表面性质的过程称为离子注入，如注硼等。

其它物理方法 主要利用机械的或化学的方法将有关金属镀覆于制件表面之上。属于这一类有：

(1) 冲击镀 利用机械冲击作用将有关金属镀覆于制件表面并形成与基体牢固　结合的镀覆层过程称为涂装，如涂漆等。

(2) 涂装　利用喷射、涂饰等方法，将有机涂料覆于制件表面并形成与基本牢固结合的涂覆层过程称为涂装，如涂漆等。

(3)激光表面加工，利用激光对制件表面进行辐照，使制件表面结构改变的过程称为激光表面加工，如激光淬火等。