上海伯东代理美国 KRI 霍尔离子源 eH 3000 大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上, 提供离子束流的离子源.
尺寸: 直径= “ 高= 6"
放电电压 / 电流: 50-300V / 20A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性
• 水冷 - 加速冷却
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
• 高效的等离子转换和稳定的功率控制

KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

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