一、设备用途及工艺条件简述
、设备用途:粉体材料在氧化性气氛中的连续性烧成。
、装料方式:将物料装于匣钵中,再将匣钵置于碳化硅移进板上,由辊棒传动碳化硅移进板在窑内移动,坩埚三排双层放置。
、窑内气氛:空气。物料在烧成过程中会产生水蒸气等少量废气,废气中不含腐蚀性成分。
二、主要技术参数及要求
、额定温度: 900ºC。
、 常用温度: 800ºC。
、 额定功率: 400 KW。
、 保温功率: 200 KW
、 供电电源: 380V
、 加热区数: 15区
、 控温点数: 15点
、 加热方式: 上下加热,恒温区上下分别控温
、 加热元件: 等直径硅碳棒
0、控温精度: ≤±1ºC
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