诺泰此款管式真空炉是在原来管式炉的基础上，增加真空系统，得到高洁净腔体，提供清洁无杂质的高真空状态，加热温度均匀且能够精确控制，特别适用于半导体器件或其他对环境要求高的材料的退火工艺，工件质量优良，成品率高。
设备特点：
1、采用高精度、多功能温控仪，可自动调节与修改PID参数，存储控温曲线并可随时修改、删除以及重新设定，操作简单方便；
2、炉体可以移动推拉,以加速低温段的降温；
3、具备多项故障显示，报警及连锁保护功能；
4、外形美观，占地面积小；
应用范围：
此管式真空炉主要用于陶瓷电路、传感器烧结及退火处理、永磁合金制造、真空钎焊、真空除气、金属材料的无氧化光亮热处理等工艺。
技术参数：
| 产品名称 | 管式真空炉 |
| 产品型号 | PT-T1100-LZ-1R |
| 温度 | 1100℃ |
| 工作温度 | 1000℃ |
| 物料尺寸 | 2~8英寸圆片或方片 |
| 恒温区长度 | 400~800mm |
| 恒温区精度 | ≤±0.5℃（600～1000℃）,≤±1℃（300～600℃） |
| 升温速率 | 10℃/min |
| 极限真空度 | ≤5×10-3Pa |
| 气路系统 | 氧气、氮气、氩气 |
| 更多参数要求可根据要求来定制 | |
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